美国EUV光刻机禁令加剧中国芯片技术差距

栏目：最新动态发布时间：2026-04-24 02:08

美国对华EUV光刻机禁令显著拉大中国与西方在芯片制造技术上的差距，导致至少10至15年的技术滞后。技术封锁对中国半导体产业升级形成严峻挑战，关键设备断供促使行业加速自主创新路径探索。